UVC波长紫外线灯功率2KW

ORC制作所株式会社的品质管理实施方法１．品质管理①ISO-9001的认证・QC工程表、依作业标准书的标准化・认定工程、依作业审定的教育训练②外注部件的品质：・实施定期的品质会议・确保外注部件的安定筹措③产品品质：・采用弊社独自的检查方式・高亮度照明设备・Ｘ线检查装置・弊社独自的点灯试验方法・产品的抽样检查

为了防范于未然，实施全数点灯试验。

通过本公司的精密的灯制造工程，灯的初期照度的偏差非常小，很受客户的好评。 i线步进式光刻机NSR-SF110,用于半导体器件制造。使用ORC高压汞灯，功率3.5KW，型号：NLi-3500AS。UVC波长紫外线灯功率2KW

弊社が作っている超高圧UVランプは、主に半導体や液晶、プリント基板などのリソグラフィ（回路パターン焼付け）用光源として、各種の露光装置に搭載されています。用途として半導体回路形成用光源、液晶パターン形成用光源、カラーフィルターパターン形成用光源、プリント基板回路形成用光源、MEMSパターン形成用光源、蛍光顕微鏡用光源、紫外線硬化用光源、その他新規露光用途など数多くに使われています。製品の型式について営業担当者までお問い合わせてください。 清洗UV灯紫外线灯R0110M在黑暗中寻找光明，超高压汞灯、金属卤素灯，紫外线灯为你指明方向。

オーク製作所

紫外線光量計(Made in japan)

用途:OLED,LED,PCB,IC，LCD工厂，封装工艺中密封框胶水的固化。

特长：紫外线光固化，低能耗，无污染，高效率。

配合光量计，测量365nm峰值波长紫外线灯照度大小。

型番:UV-351

規格:測定波長:310～385nm

測定照度範囲:0.1～100ｍW/cm²

測定光量範囲:1～19999mJ/cm²

繰り返し精度:±1.5%以内

標準構成:

①光量计本体UV-351

②减光filter

③纽扣锂电池

④螺丝刀₋

⑤螺丝刀＋

⑥操作说明书

⑦除尘布

⑧收纳箱

光刻机（lithography）又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。生产集成电路的简要步骤：利用模版去除晶圆表面的保护膜。将晶圆浸泡在腐化剂中，失去保护膜的部分被腐蚀掉后形成电路。用纯水洗净残留在晶圆表面的杂质。其中曝光机就是利用紫外线通过模版去除晶圆表面的保护膜的设备。一片晶圆可以制作数十个集成电路，根据模版曝光机分为两种：模版和晶圆大小一样，模版不动。模版和集成电路大小一样，模版随曝光机聚焦部分移动。其中模版随曝光机移动的方式，模版相对曝光机中心位置不变，始终利用聚焦镜头中心部分能得到更高的精度。成为的主流。以紫外线之力，突破半导体工业的极限。

金属卤素灯在含有汞及氩气等稀有气体的UV灯的基础上添加铁掺合、钾掺合或其它稀土金属原素掺合。铁掺合卤素灯特别增强了380hm作为比较高波峰。主要适用于油墨、油漆的固化，干膜、湿膜，绿色阻焊的曝光。在网印和固化中带颜色，特别是涂层较厚的产品和白色、黑色的干燥有突出的效果。PCB、LCD行业：pcb 是电路板 uv灯管用于电路板的印刷一般使用METAL（金属卤素灯管），另外还有一种是曝光灯也属于金属卤素灯 PCB制作的时候，用于曝光显影的，一般用在电路板公司。lcd是显示屏，一般用低压冷紫外线灯管和固化用的灯管不一样，但是都属于紫外线灯，用途不一样。专业紫外线灯，为半导体工业提供持久动力。牛尾电机紫外线灯UNL-13503A

i线步进式光刻机NSR-SF150,用于半导体器件制造。使用ORC高压汞灯，功率7.5KW，型号：NLi-7500AL2D。UVC波长紫外线灯功率2KW

i线步进式光刻机NSR-SF150适用于半导体器件的制造。性能：Resolution分辨率≦280nm，Exposure light source曝光光源i-line(365nmwavelength)，Reductionratio缩小倍率1:4Maximumexposurefield，曝光范围26mm×33mm，Throughput产出≧200wafers/hour(300mmwafer,76shots),也可用于200mmwafer。采用悬吊投影镜头、减轻震动的“天钩构造”。通过高速运转的晶圆工作台，实现了每小时200片以上300mm晶圆的高产出。●超高产出采用了适于步进式光刻机的新平台“天钩构造”，同时晶圆工作台可高速运转，从而大幅度降低了振动，并实现了高产出。达到了每小时200片以上300mm晶圆的超高产出。高重合精度采用了“天钩构造”与配重物。并重新配置了空调管路，有利于工作室内的散热。使用ORC制作所生产的7.5KW超高压汞灯，对应型号：NLi-7500AL2。UVC波长紫外线灯功率2KW